《概要》

電子ビームは人類が手に入れた最高の道具といわれています。
それは、１．極微細性、２．高速性、３．制御性という超微細加工装置に必要な３要素を兼ね備えているからです。
本装置は抜群の簡易性、機能性を付加したポイントビーム型電子線描画装置です。
光デバイス、フォトニック結晶、ＤＦＢレーザーの回折格子、半導体デバイスなどの微細パターン作成にぜひご利用下さい。
研究開発から準量産まで対応しております。

《特徴》

鏡筒をパーマロイボックスで覆うことにより、外乱や内乱の影響を最小限におさえております。
５０kVでビームスポットサイズ2nm、最小線幅5.6nm、つなぎ精度10nm等の性能を実証することが出来ています。
カラム条件や描画条件はレシピ化してセーブ・ロード可能、マルチユーザー環境に対応した使い勝手の良さも特徴です。
また近接効果補正ソフトや、回転対称描画法（特許）といったオリジナルのソフトウェアも充実しています。